視頻      在線研討會(huì)
半導(dǎo)體激光器 激光切割 激光器
技術(shù)中心
量子級(jí)聯(lián)激光器
深勢(shì)阱使量子級(jí)聯(lián)激光器的效率提高近兩倍
材料來(lái)源:激光世界           錄入時(shí)間:2010-8-9 16:57:49

 

作者:Gail Overton

傳統(tǒng)的量子阱激光器(QCL)的內(nèi)核包含半導(dǎo)體量子阱和固定化合物勢(shì)壘,這種結(jié)構(gòu)會(huì)導(dǎo)致4.5~5.5µm的中紅外QCL器件的載流子泄露,因而使斜坡效率出現(xiàn)快速下降;在器件內(nèi)核中的30~40個(gè)增益區(qū)間中,由于激光上能級(jí)和勢(shì)壘頂部較小的能量差(大約為200meV),從而使閾值電流密度隨溫度快速上升。雖然具有異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu)的器件在室溫下可以達(dá)到12%的電光轉(zhuǎn)換效率(WPE),然而這些器件對(duì)溫度極其敏感,這就很難達(dá)到理論上的28%的WPE。

 

圖:與傳統(tǒng)的量子級(jí)聯(lián)激光器相比(上圖),新型設(shè)計(jì)的深阱QCL的量子阱中的激光上能級(jí)和增益區(qū)勢(shì)壘頂部較小的能量差大約提高了兩倍,這可以有效抑制載流子泄露并提高效率。

盡管有許多新的勢(shì)壘和量子阱設(shè)計(jì)試圖抑制載流子泄露都沒(méi)有成功,但是來(lái)自威斯康星大學(xué)(UWM)和美國(guó)海軍研究實(shí)驗(yàn)室(NRL)的研究小組,成功地找到了一種有效的方法。通過(guò)使用能量較深的勢(shì)阱,以及精細(xì)設(shè)計(jì)的馳豫和注入?yún)^(qū),激光器中增益區(qū)載流子泄露被充分抑制,因此斜坡效率和閾值電流隨溫度的變化率只有傳統(tǒng)QCL的一半,因而明顯地增加了連續(xù)光(CW)運(yùn)轉(zhuǎn)激光的效率,并最終可以獲得長(zhǎng)期可靠運(yùn)行的瓦量級(jí)連續(xù)光QCL。

 加深勢(shì)阱

這個(gè)新器件中的深量子阱需要應(yīng)力補(bǔ)償,增益區(qū)的鋁成分從64%增加到75%,用于提高勢(shì)壘。因此,激光上能級(jí)和勢(shì)壘頂部的能量差提高到了450meV,這是傳統(tǒng)QCL的兩倍(見(jiàn)圖)。與傳統(tǒng)QCL相比,新器件在增益區(qū)之后的馳豫區(qū)具有一個(gè)錐形的導(dǎo)帶邊緣。這使馳豫區(qū)的波函數(shù)遠(yuǎn)離增益區(qū),減小與增益區(qū)的重疊,從而進(jìn)一步抑制載流子泄露。最終,該研究小組還發(fā)現(xiàn),注入?yún)^(qū)的錐形導(dǎo)帶邊緣也可以減少載流子泄露。

正如研究人員期望的那樣,深勢(shì)阱器件的閾值電流密度的溫度特性可以增加到270K,相比之下,工作在20~90°C的傳統(tǒng)的QCL只能達(dá)到140K,而且斜坡效率的溫度特性也從140K增加到了285K。除了UWM-NRL研究小組外,參與合作研究的麻省理工學(xué)院的科學(xué)家還建立了一個(gè)理論模型,該模型能夠很好地預(yù)測(cè)傳統(tǒng)QCL和深勢(shì)阱QCL的溫度特性。根據(jù)預(yù)測(cè),由于抑制了載流子泄露,連續(xù)光運(yùn)轉(zhuǎn)的4.8µm深勢(shì)阱器件的WPE可以超過(guò)20%。

除了提高QCL的WPE外,抑制載流子意味著可以顯著改善高功率運(yùn)轉(zhuǎn)的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。威斯康星大學(xué)的Dan Botez教授說(shuō):“利用這種深勢(shì)阱對(duì)載流子的抑制可以獲得真正可靠的瓦量級(jí)連續(xù)光QCL。而且,這些新的器件可以幫助實(shí)現(xiàn)中紅外量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)激光器,使其具有室溫工作連續(xù)光運(yùn)轉(zhuǎn)的WPE達(dá)到50%。”這樣的量子點(diǎn)結(jié)構(gòu)激光器可用于中紅外非冷卻手持式傳感器中。

 參考文獻(xiàn)

  1. D. Botez et al., Proc. SPIE 7616, 76160N, (February 2010); http://dx.doi.org/10.1117/12.842593.
  2. J.C. Shin et al., Electron. Lett. 45, 741 (2009).
  3. D. Botez et al., Future Trends in Microelectronics: Unmapped Roads, eds. S. Luryi, J. Xu, and A. Zaslavksy, Wiley Interscience-IEEE Press, in press (2010).

上一篇:飛秒光纖激光器實(shí)現(xiàn)100fs脈寬 下一篇:激光器的輸出波長(zhǎng)在光譜上不斷拓展...
相關(guān)文章
·單個(gè)激光器以兩個(gè)角度輸出光束    技術(shù)中心    2010-7-16 14:09:39
·光學(xué)照射調(diào)制量子級(jí)聯(lián)激光器    技術(shù)中心    2011-1-26 9:10:09
·微系統(tǒng)所在太赫茲量子級(jí)聯(lián)激光器研究方面取得進(jìn)展    新聞聚集    2011-9-8 10:29:09
·波蘭科學(xué)家研究出制造產(chǎn)量子級(jí)聯(lián)激光器的技術(shù)    新聞聚集    2012-3-12 10:10:09
·Thorlabs收購(gòu)中紅外半導(dǎo)體激光器公司Maxion    新聞聚集    2012/11/27 11:42:49
·Thorlabs收購(gòu)兩項(xiàng)資產(chǎn) 瞄準(zhǔn)中紅外醫(yī)療市場(chǎng)    新聞聚集    2013/1/7 10:16:19

版權(quán)聲明:
《激光世界》網(wǎng)站的一切內(nèi)容及解釋權(quán)皆歸《激光世界》雜志社版權(quán)所有,未經(jīng)書(shū)面同意不得轉(zhuǎn)載,違者必究!
《激光世界》雜志社。



激光世界獨(dú)家專(zhuān)訪

 
 
 
友情鏈接

一步步新技術(shù)

潔凈室

激光世界

微波雜志

視覺(jué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)

化合物半導(dǎo)體

工業(yè)AI

半導(dǎo)體芯科技

首頁(yè) | 服務(wù)條款 | 隱私聲明| 關(guān)于我們 | 聯(lián)絡(luò)我們
Copyright© 2024: 《激光世界》; All Rights Reserved.