近日，半導(dǎo)體光刻光源的主要生產(chǎn)廠商Gigaphoton株式會(huì)社宣布，自2019年2月開始出產(chǎn)最大輸出級(jí)200W加工裝置用KrF激光器G200K。

2016年，Gigaphoton宣布其利用自身長期以來在半導(dǎo)體光刻領(lǐng)域積累的技術(shù)實(shí)力成功開發(fā)出了可靠性較高的準(zhǔn)分子激光器“GIGANEX”系列產(chǎn)品，第一代產(chǎn)品公布了面向FPD制造退火工序的KrF激光器GT600K。

此次發(fā)布的加工裝置用KrF激光器GT200K是該系列第二代產(chǎn)品。G200K最大輸出功率達(dá)200W，采用Gigaphoton的激光性能穩(wěn)定技術(shù)和模塊壽命延長技術(shù)實(shí)現(xiàn)高可靠性，有望成為滿足客戶需求的加工裝置用激光器。

Gigaphoton的董事長兼總經(jīng)理浦中克己表示：“公司的‘GIGANEX’秉持將在半導(dǎo)體光刻用準(zhǔn)分子激光器領(lǐng)域長期積累的技術(shù)應(yīng)用到其他領(lǐng)域的理念研制而成，已形成系列化產(chǎn)品。此次推出第二代產(chǎn)品G200K，擴(kuò)大了產(chǎn)品陣容。公司今后將繼續(xù)提供‘GIGANEX’的解決方案，為產(chǎn)業(yè)界做出廣泛貢獻(xiàn)。”